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盛陽(yáng)小講堂：如何撰寫(xiě)專利說(shuō)明書(shū)？

返回列表 來(lái)源：盛陽(yáng)專利發(fā)布日期：2023-09-12 14:01:00

一篇專利文件撰寫(xiě)質(zhì)量的好壞，主要取決于權(quán)利要求書(shū)和說(shuō)明書(shū)這兩部分是否有寫(xiě)好，其中，說(shuō)明書(shū)需要盡可能的詳細(xì)豐富，這樣才能起到最大的專利保護(hù)范圍，下面來(lái)介紹下該如何撰寫(xiě)說(shuō)明書(shū)呢？

盛陽(yáng)小講堂：如何撰寫(xiě)專利說(shuō)明書(shū)？

說(shuō)明書(shū)包括技術(shù)領(lǐng)域、背景技術(shù)、發(fā)明創(chuàng)造內(nèi)容、附圖說(shuō)明和具體實(shí)施例，在此主要逐重講述的是背景技術(shù)、發(fā)明創(chuàng)造內(nèi)容和具體實(shí)施例。
首先，背景技術(shù)很重要，這是進(jìn)行發(fā)明創(chuàng)造的根本原因，此部分一定要詳細(xì)闡述，即本領(lǐng)域中現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，因?yàn)闊o(wú)論是原創(chuàng)性發(fā)明還是改進(jìn)型發(fā)明，都是基于現(xiàn)有技術(shù)的缺陷而產(chǎn)生，因此這部分寫(xiě)的不好很有可能導(dǎo)致跟所要解決技術(shù)問(wèn)題的方案無(wú)法匹配，從而影響專利權(quán)的授予。
其次，發(fā)明創(chuàng)造內(nèi)容部分涉及的是發(fā)明目的，其是參照背景技術(shù)中的缺陷或問(wèn)題而來(lái)的，發(fā)明目的一定要直接解決技術(shù)問(wèn)題，千萬(wàn)不能拐彎抹角的引申到其它問(wèn)題上去，如果這個(gè)地方寫(xiě)錯(cuò)了，可能直接導(dǎo)致該專利被駁回，后果相當(dāng)嚴(yán)重，因此，準(zhǔn)確提煉出要解決的技術(shù)問(wèn)題是技術(shù)方案的前提，一步錯(cuò)自然步步錯(cuò)；其次是技術(shù)方案，有了問(wèn)題自然就要解決問(wèn)題，解決問(wèn)題采用的方案就是發(fā)明創(chuàng)造內(nèi)容部分的核心內(nèi)容；最后是有益效果，所謂效果主要是技術(shù)效果，比如“由于采取A部件，使B機(jī)構(gòu)得以順暢運(yùn)行，消除了C現(xiàn)象”等，盡量少寫(xiě)如“產(chǎn)量提高、效率提高”等跟經(jīng)濟(jì)效果有關(guān)的語(yǔ)句，我個(gè)人理解是專利保護(hù)的客體雖然是發(fā)明創(chuàng)造，但基礎(chǔ)專利本身不具有工業(yè)化、規(guī)?；墓δ?，哪怕是在實(shí)際生產(chǎn)中花費(fèi)大量金錢和人力，只要解決了技術(shù)問(wèn)題就可以，這里根本體現(xiàn)不了效率、產(chǎn)量這些指標(biāo)。
最后，具體實(shí)施例部分，由于開(kāi)頭說(shuō)過(guò)說(shuō)明書(shū)要盡量詳細(xì)豐富，所以這部分就盡情的揮墨吧，把與該技術(shù)方案有關(guān)甚至是能夠使該方案實(shí)施的所有技術(shù)要點(diǎn)、特征都寫(xiě)進(jìn)來(lái)。
總之，在說(shuō)明書(shū)中還是盡量詳細(xì)闡述該技術(shù)方案內(nèi)容，便于后續(xù)在實(shí)審答復(fù)OA中，可將說(shuō)明書(shū)中記載的特征補(bǔ)入到權(quán)利要求書(shū)中以克服缺陷，增加授權(quán)可能性。